skhtma1.jpg

انتشار مقاله عضو هیأت علمی دانشگاه، با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی

 

 

در پژوهش مشترک دانشگاه فناوری های نوین سبزوار و دانشگاه شهید بهشتی صورت گرفت:

تجزیه و تحلیل نانو سختی و نانو خراش لایه های نانو متری اپتیکی و فوق شفاف F:S:Oxکه به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده است

 

 

در پژوهش دکتر مرضیه عباسی فیروزجاه، عضو هیأت علمی دانشگاه فناوری های نوین سبزوار با همکاری دکتر بابک شکری، عضو هیأت علمی دانشگاه شهید بهشتی، لایه های اپتیکی نانومتری و فوق شفاف F:S:Oxبه روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده و ویژگی های نانو سختی و نانو خراش آنها مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.

محصول این پژوهش کاربردهای فراوانی در صنعت اپتیک، اپتوالکتریک و نانو الکتریک دارد.

در راستای این پژوهش بررسی مقاومتت لایه ها در برابر شرایط محیطی سخت در شرکت الکترواپتیکولیزر اصفهان (صاایران) صورت گرفت و کیفیت نمونه ها در آزمون مربوطه مورد تایید قرار گرفت. 

گفتنی است این مقاله با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی: Journal of Non-Crystallin Solids چاپ شده است.

 

 

 

برای دریافت مقاله بر روی لینک زیر کلیک کنید:

https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022309320305226?dgcid=author

 

 

 

   آدرس: کمربندی سبزوار، تقاطع جاده بردسکن     کدپستی:     9615918339       صندوق پستی: 679   

     تلفن :  44200980 - 051    فکس : 44200981 - 051          فکس مستقیم : 44200886 - 051

   پست الکترونیکی: university.new.tech@gmail.com            

تمامی حقوق متعلق به دانشگاه فناوری های نوین سبزوار می باشد.